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脫硝氨逃逸分析儀 氨氣分析儀

簡要描述:

脫硝氨逃逸分析儀(yi) 取樣方式為(wei) 在位式高溫伴熱抽取。本係統基本原理是基於(yu) 紫外差分吸收光譜(DOAS)技術及可調諧半導體(ti) 激光吸收光譜(TDLAS)技術;紫外差分吸收光譜技術原理為(wei) ,同種氣體(ti) 在不同光譜波段有不同的吸收,不同氣體(ti) 在同一光譜波段的吸收疊加作用,通過對連續光譜做算法分析,可同時測量多種氣體(ti) ,有效


  • 更新時間:2024-01-26
  • 訪問次數:7695
  • 廠商性質:生產廠家
  • 生產地址:西安市

脫硝氨逃逸分析儀(yi)

孕育產(chan) 生水和N2。注入的氨可以直接以NH3的,比方燃煤發電廠。也可以先議決(jue) 尿素分析釋放得到NH3再注入的,後燃NOX控製技能可以是選擇性催化還原法(SCR)也可以是選擇性非催化還原法(SNCR),無論何種,基源頭根本理都是一樣的。即都是議決(jue) 往應聲器內(nei) 注入氨與(yu) 氮氧化物產(chan) 生應聲,在大範圍燃燒礦物燃料的範疇,都安置了前燃(pre-combustion)或後燃(postcombustion)NOX控製技能的脫硝裝置,但是無論應用哪種要領,
氨注入的過少,不光不能淘汰NOX排放,逃逸的NH3會(hui) 與(yu) 工藝流程中孕育產(chan) 生的硫酸鹽產(chan) 生應聲生成硫酸銨鹽。在應聲區注入的氨散布環境與(yu) NO和NO2的散布不立室時也會(hui) 出現氨逃逸征象,
,控製好氨的注入總量和氨在應聲區的空間散布便可以大化的低沉NOX排放,反而因為(wei) 過量的氨導致NH3逃逸出應聲區。就會(hui) 低沉還原轉化效率,且緊張都是重硫酸銨鹽,銨鹽會(hui) 在鍋爐尾部煙道卑鄙固體(ti) 部件外貌上沉澱,比方沉澱在氛圍預熱器扇麵上,會(hui) 造成緊張的配置腐化,並因此帶來昂貴的維護費用,氨注入的過量,高氨量逃逸的環境陪伴著NOX轉化效率低沉是一種非常糟糕的征象和很緊張的問題。

2.2氨逃逸的危害

(1)逃逸掉的氨氣造成資金的浪費,環境汙染;

(2)氨逃逸將腐蝕催化劑模塊,造成催化劑失活(即失效)和堵塞,大大縮短催化劑壽命;

(3)逃逸的氨氣,會(hui) 與(yu) 空氣中的SO3生成硫酸氨鹽(具有腐蝕性和粘結性)使位於(yu) 脫銷下遊的空預器蓄熱原件堵塞與(yu) 腐蝕;

(4)過量的逃逸氨會(hui) 被飛灰吸收,導致加氣塊(灰磚)無法銷售;

脫硝氨逃逸分析儀(yi) 生產(chan) 廠家在線監測

三、規格與(yu) 技術參數

 指標

測量範圍

0-10.0ppm,0-50.0ppm 可根據用戶需求設定

響應時間

<20s

線性誤差

<1%F.S

零點漂移

可忽略

重複性

1%F.S

標定

出廠時已標定,無需定期標定

輸入和輸出信號

模擬量輸出

4-20mA電流環,750ΩMax,隔離

報警輸出

濃度超限、溫度異常、係統故障均報警

繼電器輸出

2路(可擴展),觸點負載24V,2A

通訊接口

RS485,雙端隔離

工作條件

環境溫度

(-20)~50℃

保護等級

IP54

工作電壓

200V-240VAC,50Hz

電源功耗

≤3000W

預熱時間

1小時

伴熱溫度

180℃~240℃

 

采樣流量

2~20L/min(可根據用戶需求定製)

尺寸

機櫃

1000×1200×600mm(默認尺寸)

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